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用途
•高分子材料表面的官能基付與一粘合性、密著性提高。通 過(guò)氧化反應(yīng)，在表面生成-OH,>C=O,-COOH等官能 基（微量的水分及二氧化碳影響）。
同樣在氮?dú)獾入x子體中，氮原子被吸收在表面中，生
成-NH 2等官能基。
•硅晶圓蝕刻。
•材料表面改性（金屬、聚合物、薄膜、啕瓷等）。
•石棉預(yù)處理（膜過(guò)濾灰化）。
•從電子設(shè)備到生化市場(chǎng)。
•低溫灰化（高分子材料、煤炭、食品等）。
•使用玻璃和PDMS板粘貼PDMS芯片。
•表面有機(jī)物去除。
■特點(diǎn)
• RF為200 W的高性能輸出類型（PR200）。
•由于是尺寸緊湊的臺(tái)式機(jī)，很小的位置都可以安裝。
•同步，自動(dòng)調(diào)諧，操作簡(jiǎn)單（PR200）。
•等離子體反應(yīng)器（灰化設(shè)備）（PR200）。
•同步、自動(dòng)調(diào)諧（PR200）。